水處理設備耗材

2025-06-26 17:41:16超級管理員 22

電子芯片制造是現代高科技產業的核心環節，而超純水在這一過程中扮演著至關重要的角色。光刻環節需要超純水作為清洗劑，任何微小的雜質都可能導致光刻圖案缺陷；晶圓清洗過程直接關系到芯片的成品率和可靠性；化學機械拋光(CMP)后清洗對水質的要求同樣極高；超純水還用于制備各種工藝化學品和作為冷卻介質。本文將為您分享電子芯片制造中工業EDI模塊超純水設備應用。

工業EDI模塊系統在芯片廠的配置方案

一套完整的芯片廠超純水系統通常采用多級處理工藝。原水經過多介質過濾器和活性炭過濾器去除懸浮物和有機物，通過兩級RO裝置去除97%-99%的溶解鹽。RO產水進入EDI模塊進行深度脫鹽，EDI模塊產水再經過紫外氧化、精混床拋光、超濾等最終處理，達到芯片生產要求的超純水標準。

在大型芯片廠，EDI模塊系統通常采用多模塊并聯設計，模塊數量根據水量需求可達數十甚至上百個。例如，某國際知名芯片企業在華的12英寸晶圓廠，其超純水系統配置了80個EDI模塊，單模塊產水量為5m3/h，系統總產水量達400m3/h。該系統采用N+1冗余設計，確保任何單個模塊故障不影響整體供水。控制方面采用PLC+SCADA全自動控制，實時監測關鍵參數如電阻率、壓力、流量等，并與工廠CIM系統聯網。

為確保EDI模塊系統穩定運行，預處理系統的可靠性至關重要。RO系統必須保持較高的脫鹽率(通常>98%)和回收率(75%-85%)，進水COD應<0.5mg/L，余氯<0.01mg/L。此外，完善的清洗系統也是必不可少的，包括化學清洗系統和熱水消毒系統，可定期清除膜表面的污染物和微生物。

智能化是EDI模塊系統的另一重要發展方向。基于物聯網的預測性維護系統通過分析歷史運行數據，可提前數周預測膜堆性能衰減；人工智能算法動態優化運行參數，在保證水質前提下最大限度節能；數字孿生技術實現系統虛擬調試和故障模擬。這些創新不僅提高了系統可靠性，還降低了人工干預需求。如果您想了解更多新能源電池生產凈水方案相關的資訊，歡迎隨時在本網站留言或來電咨詢相關資訊！感謝您認真閱讀！

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